著者名 平下,紀夫

Norio Hirashita
論題 昇温脱離ガス分光分析法による超LSI薄膜材料とプロセスの研究

Thermal desorption spectroscopic study of gaseous evolution from interdielectric films and its effects on VLSI circuit reliability
学位授与年月日 1996.03.22
学位の種別 論文博士
学位の種類 博士(工学)
学位記番号 博乙第26号
論文審査委員 主査 神原武志 教授


権平健一郎 教授


橋本 満 教授


林 茂雄 助教授


山田修義 助教授